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Standard NeoCoat-Electrodes sur silicium

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Propriétés des dépôts BDD

Epaisseur Dopage Résistivité
μm ppm at.cm-3 mΩ.cm
2-3 100 2.1019 500
2-3 700 1.1020 100
2-3 2500 4.1020 14
2-3 5000 9.1020 4
2-3 10000 2.1021 2

 

Géométrie, tailles et substrats disponibles:

p-Silicium Epaisseur (mm) Taille (mm) Face déposée Dopage disponible (ppm)
Monocristallin 2 Rectangle, 50 x 25 Monopolaire (une) 700, 2500, 5000, 10000
Monocristallin 2 Rectangle, 50 x 25 Bipolaire (deux) 700
Monocristallin 2 Disque, Φ100 Monopolaire (une) 100, 700, 2500, 5000, 10000
Monocristallin 2 Disque, Φ100 Bipolaire (deux) 700
Monocristallin 1 Carré, 100 x 100 Monopolaire (une) 100, 700, 2500, 5000, 10000
Monocristallin 1 Carré, 100 x 100 Bipolaire (deux) 700

 

Pour d'autres spécifications, veuillez consulter SVP la section Custom NeoCoat-Electrodes.

 

 

Custom NeoCoat-Electrodes sur silicium

1_custom_neocoat_electrodes2_Custom Electrode2_Custom Electrodes

NeoCoat propose une large gamme d'électrodes sur-mesure :

  • Différents dopages et épaisseurs,
  • Différentes formes et tailles en utilisant des techniques de découpe adaptées.

Substrat Silicium mono- ou polycristallin (10-3 - 104 Ω.cm)
Forme de l'électrode Disque, carré, rectangulaire
Tailles possibles Disques (3 à 300 mm), carrés (3x3 à 100x100 mm)
Epaisseur film BDD De moins de 100 nm à plus de 25 μm
Concentration en bore 100-10’000 ppm
Résistivité BDD (mΩ.cm) 2 - 10’000
Uniformité en épaisseur (3σ) ±5% (sur 100 mm)
Taille de grain 40 nm pour une épaisseur de dépôt de 100 nm
0.5 µm pour une épaisseur de dépôt de 3 µm
DCOI (Diamond Coating On Insulator) Dépôt de diamant disponible sur des substrats isolants comme Si3N4/SiO2
Traitement spécifique Métallisation avec de l'or en face arrière, disponible sur demande
NeoCoat SA  -  Eplatures-Grise 17, CH-2300 La Chaux-de-Fonds, Suisse  -  +41 32 552 04 00           © 2012-2024     Mentions Légales