Standard NeoCoat-Electrodes sur silicium
Propriétés des dépôts BDD
| Epaisseur | Dopage | Résistivité | |
| μm | ppm | at.cm-3 | mΩ.cm |
| 2-3 | 100 | 2.1019 | 500 |
| 2-3 | 700 | 1.1020 | 100 |
| 2-3 | 2500 | 4.1020 | 14 |
| 2-3 | 5000 | 9.1020 | 4 |
| 2-3 | 10000 | 2.1021 | 2 |
Géométrie, tailles et substrats disponibles:
| p-Silicium | Epaisseur (mm) | Taille (mm) | Face déposée | Dopage disponible (ppm) |
| Monocristallin | 2 | Rectangle, 50 x 25 | Monopolaire (une) | 700, 2500, 5000, 10000 |
| Monocristallin | 2 | Rectangle, 50 x 25 | Bipolaire (deux) | 700 |
| Monocristallin | 2 | Disque, Φ100 | Monopolaire (une) | 100, 700, 2500, 5000, 10000 |
| Monocristallin | 2 | Disque, Φ100 | Bipolaire (deux) | 700 |
| Monocristallin | 1 | Carré, 100 x 100 | Monopolaire (une) | 100, 700, 2500, 5000, 10000 |
| Monocristallin | 1 | Carré, 100 x 100 | Bipolaire (deux) | 700 |
Pour d'autres spécifications, veuillez consulter SVP la section Custom NeoCoat-Electrodes.
Custom NeoCoat-Electrodes sur silicium
NeoCoat propose une large gamme d'électrodes sur-mesure :
- Différents dopages et épaisseurs,
- Différentes formes et tailles en utilisant des techniques de découpe adaptées.
| Substrat | Silicium mono- ou polycristallin (10-3 - 104 Ω.cm) |
| Forme de l'électrode | Disque, carré, rectangulaire |
| Tailles possibles | Disques (3 à 300 mm), carrés (3x3 à 100x100 mm) |
| Epaisseur film BDD | De moins de 100 nm à plus de 25 μm |
| Concentration en bore | 100-10’000 ppm |
| Résistivité BDD (mΩ.cm) | 2 - 10’000 |
| Uniformité en épaisseur (3σ) | ±5% (sur 100 mm) |
| Taille de grain | 40 nm pour une épaisseur de dépôt de 100 nm |
| 0.5 µm pour une épaisseur de dépôt de 3 µm | |
| DCOI (Diamond Coating On Insulator) | Dépôt de diamant disponible sur des substrats isolants comme Si3N4/SiO2 |
| Traitement spécifique | Métallisation avec de l'or en face arrière, disponible sur demande |